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アプライドの新しいAKT 55KS PECVD装置は、市場をリードする精密なプラズマCVD技術により、2200mm x 2500mmサイズの基板に酸化物半導体(MOx)トランジスタ用の絶縁膜を成膜します。水素不純物を最小化する新しい高品質な二酸化ケイ素(SiO2)...
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AKTの縦型スパッタリング装置NEW ARISTOは、優れた膜厚均一性と、業界最高のスループットを提供します。自動ロード、アンロード機能および弊社の特許取得済みキャリア搬送システムによって、サイクル時間を大幅に短縮することができます。NEW ARISTOは、...
AKT-PECVDシステムは、アモルファスシリコン(a-Si)と酸化物半導体(MOx)の両方のバックプレーン技術向けのプロセスを提供し、ドープ/アンドープ膜a-Si)、酸化ケイ素膜(SiOx)、酸化窒化ケイ素(SiON)膜、窒化ケイ素膜(SiN)、およびin-...
AKT-PiVot 25KPX PVD システムは、TFTや接続層を作成する非常に重要なフィルム層であるIGZO、ITOおよび金属膜を成膜する、第6世代(1500x1850 mm²)のLTPS/LTPOモバイル市場に特化した装置です。...
プラズマCVD装置のApplied AKT-PXファミリーは、1.6~5.7m2(第5世代~第8.5世代)のガラス基板に、均一性の高い低温ポリシリコン(LTPS)膜を成膜します。低温ポリシリコン技術は、有機ELディスプレイ(AMOLED)...
AKT PiVot 25K DT, 55K DTおよび100K PVDシステムは、第6世代(1500x1850 mm²)、第8.5世代(2200x2500 mm²)から第11世代 (2940x3370 m2)までのガラス基板サイズに対応し、...
機械的な動作が非常に小さいAKT EBT TFTアレイ検査装置は、高い信頼性、短いダウンタイム、低いランニングコストを実現します。電子ビームアレイ検査装置は、複数の平行な電子ビームを使い、高速で広範囲のビーム位置決めを行い、高いスループットを達成します。...
ディスプレイ用に現在使われているインライン自動光学欠陥検査ツールは、キラー欠陥かそうでないかを区別する、または欠陥のシステム上の根本原因を判断するのに、走査型電子顕微鏡(SEM)分析ほど有効ではなく、ディスプレイに関してSEM分析を行うには、ガラス基板を破砕し、...
薄膜封止用プラズマCVD装置、Enflexor™ Gen 6H PECVDは、優れたバリアフィルムを成膜し、フレキシブル有機EL(OLED)パネル製造を可能にします。Enflexor Gen6Hは、生産性向上のために自動マスク交換機能を備えたマスク成膜技術を有しています。...