アプライドの新しいAKT 55KS PECVD装置は、市場をリードする精密なプラズマCVD技術により、2200mm x 2500mmサイズの基板に酸化物半導体（MO）トランジスタ用の絶縁膜を成膜します。水素不純物を最小化する新しい高品質な二酸化ケイ素（SiO2）...
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完全に自動化された縦型インライン スパッタリング 装置として、NEW ARISTOは、業界最高のスループットを提供します。自動ロード、アンロード機能および弊社の特許取得済み磁気キャリア搬送システムによって、サイクル時間を大幅に短縮することができます。さらに、...
最新の静電容量タッチパネルでは、二酸化ケイ素（SiO2）酸化インジウムスズ（ITO）金属および合金からなる複数の膜が、ガラス基板の片面または両面に成膜されます（図を参照）。Aristo Twinの並列構造によって、一つのAristo Twin装置で、...
AKT-PECVDシステムは、アモルファスシリコン（a-Si）と酸化物半導体（MOx）の両方のバックプレーン技術向けのプロセスを提供し、ドープ/アンドープ膜a-Si）、酸化ケイ素膜（SiOx）、酸化窒化ケイ素（SiON）膜、窒化ケイ素膜（SiN）、およびin-...
プラズマCVD装置のApplied AKT-PXファミリーは、1.6～5.7m2（第5世代～第8.5世代）のガラス基板に、均一性の高い低温ポリシリコン（LTPS）膜を成膜します。低温ポリシリコン技術は、有機ELディスプレイ（AMOLED）...
AKT-PiVot 55K DT PVDおよび25K DT PVDシステムは、フラットパネルディスプレイ用の2200mm x 2500mmおよび1500mm x 1850mmガラス基板上に、TFTや接続層を作成する非常に重要なフィルム層を成膜し、大型テレビの製造、...
機械的な動作が非常に小さいAKT EBT TFTアレイ検査装置は、高い信頼性、短いダウンタイム、低いランニングコストを実現します。電子ビームアレイ検査装置は、複数の平行な電子ビームを使い、高速で広範囲のビーム位置決めを行い、高いスループットを達成します。...
ディスプレイ用に現在使われているインライン自動光学欠陥検査ツールは、キラー欠陥かそうでないかを区別する、または欠陥のシステム上の根本原因を判断するのに、走査型電子顕微鏡（SEM）分析ほど有効ではなく、ディスプレイに関してSEM分析を行うには、ガラス基板を破砕し、...
薄膜封止用プラズマCVD装置、Enflexor™ Gen 6H PECVDは、優れたバリアフィルムを成膜し、フレキシブル有機EL（OLED）パネル製造を可能にします。Enflexor Gen6Hは、様々なバッファフィルムを提供すると同時に、自動マスク交換機能を有しており、...
