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ALTA® 4700DP Mask Writer

ALTA 4700DP 시스템은 바이너리(binary) 마스크와 위상 반전 마스크(Phase Shifting Mask)의 비용 효율적인 패터닝을 제공하여 빠른 작업 완료 시간 및 단축된 설계 사이클을 지원합니다. 높은 NA 광학계 및 DUV 레이저가 고해상도 및 엄격한 치수 제어로 포토마스크 패턴을 기록하는 데 필요한 예리한 빔을 생성합니다. 개선된 스테이지 제어 기능을 통해 패턴 배치 정확도가 향상되어 세트 내 마스크 간 정밀한 매칭이 가능합니다.

다수의 고속 프로세서에서 실행되는 고도로 통합된 새로운 소프트웨어 기반 데이터 경로를 사용하여 도구는 이전보다 10% - 50% 더 빠르게 마스크를 패턴화할 수 있습니다. 패턴 준비 및 마스크 프린팅이 병렬로 수행되므로 대량 생산 환경에서 오버헤드(overhead) 시간을 줄일 수 있습니다.

2단계 정렬 시스템은 첨단 PSM 마스크를 생성하는 데 필요한 타이트 오버레이(overlay)를 제공합니다. 첨단 PSM 마스크는 웨이퍼 리소그래피가 자체적인 한계에 도달함에 따라 더 많이 사용됩니다. 비노출 정렬광은 노출 빔과 동일한 광학 경로를 사용하여 기준 오프셋(offset)을 방지하고 안정적인 생산 성능을 보장합니다.

ALTA 4700DP는 멀티패스 쓰기를 사용하여 리소그래피 품질을 향상시키고 새로운 데이터 경로에 의에 활성화된 더 미세한 어드레스 그리드(address grid)를 사용합니다. 4-pass 모드는 가장 까다로운 마스크에 사용되며, 높은 생산능력의 2-pass 모드는 비교적 중요도가 낮은 레이어에 대한 쓰기 시간을 단축합니다. 통합 소프트웨어 기능은 패턴 밀도에 따라 달라지는 오류 및 프로세스-풋프린트(footprint) 오류를 보상하여 글로벌 라인 폭 균일도 개선에 사용할 수 있습니다.

안정적인 프린팅 엔진은 최소 컨택 마스크 핸들링 시스템과 결합되어 매우 높은 수율을 달성합니다. ALTA 4700DP의 표준은 SECS/GEM으로, 시스템과 팹 호스트 간의 통신을 허용하며 프린팅 프로세스의 자동화를 가능하게 합니다.