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磊晶用於在半導體製造中創造完美的矽晶體基底層,以便在晶體基底層上建構半導體元件、沉積具電性的晶體薄膜,或改變底層的機械特性以改善導電性。
這個最後應用被稱為應力工程,其中磊晶薄膜會形成電晶體通道中晶格的壓縮或拉伸應力。應用材料公司的磊晶技術可滿足所有這些應用,生產高均勻度的薄膜、精準放置摻雜原子、極低的缺陷數量,以及具有選擇性沉積的能力。
應用材料公司的 Centura Epi 系統是經過全球生產驗證的 ~900 200mm 反應室、單晶圓、多反應室磊晶矽沉積系統。每個採用輻射加熱的製程反應室均可以提供精確和可重複的沉積條件控制,並可以實現完全無滑移的薄膜、出色的薄膜厚度和電阻率均勻性,以及低缺陷水平。...
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約二十年來,應用材料從領先業界的 Centura RP Epi 系統累積了磊晶方面的專業知識;Centura Prime Epi 保留了該系統的核心,同時改進了系統前身的設備可配置性和製程能力。全新單反應室配置可在減少 30% 佔地面積下提高設備正常運轉率和產能...