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AKT®-PiVot™ DT PVDシステム

AKT PiVot 25K DT, 55K DTおよび100K PVDシステムは、第6世代(1500x1850 mm²)、第8.5世代(2200x2500 mm²)から第11世代 (2940x3370 m2)までのガラス基板サイズに対応し、TFTや接続層を作成する非常に重要なフィルム層を成膜します。優れた膜厚均一性、パーティクル、および安定性性能により、より小さなトランジスタによる高い解像度や高いフレームレートを目指す次世代型テレビの製造技術ロードマップ実現に貢献しています。

独自のロータリー・カソード技術により、マグネットを正確に動かし、膜特性を調節し、酸化膜半導体LCDや有機ELパネル製造の課題解決に極めて重要なムラの無いIGZOフィルムなど、優れた膜均一性を達成します。さらに、ロータリー技術により、平板ターゲットに比べ、ターゲット使用効率が70%以上高く、高価なターゲット材料を大幅に削減することができます。TFTが小型化し、基板が大型化するにつれ、膜均一性やパーティクルが歩留まりに与える影響が極めて大きくなりますが、セルフクリーニング機能を持つロータリーターゲットにより、欠陥を著しく削減します。