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AXCELA™ PVD

クラス最高性能を誇るアプライド マテリアルズのAxcela PVD装置は、10年間にわたりプロセスの優位性と面内均一性1σで2%以下という安定性を実証してきました。きわめて優れたCOO(Cost of Ownership)と、8μmまでの膜厚に対応した設計で、それぞれのスパッタリングチャンバは、標準で最大3種類の異なる材料を成膜する能力を備え、さらにより高い成膜速度で同時スパッタリングを可能とするオプション機能を付加することができます。装置はコンパクトに設計されており、150、200、300、または330mmウェーハに対応するなど多様な組み合わせも可能です。デガス、プリクリーン、PVDのチャンバモジュールを備え、複数のアプリケーションに対応して、最適処理とスループット要件を実現します。装置構成の変更が容易なため、お客様はアプリケーションに応じて最適な構成を選択することができます。

200mmおよび300mmチャンバにパッケージングしたEMIリング

Axcelaは小型バッチクラスターアーキテクチャにより、EMIシールド、裏面メタライゼーション、MEMSTSVUBMRDLを含むほとんどのメタライゼーションアプリケーション向けに最適な選択といえる、信頼性の高いPVD装置です。成膜の厚さを厳密に制御し、薄膜にも対応して、プロセス・製造エンジニアの厳しい設計要件を満たします。

Dソースマグネトロンは、全面エロ―ジョンによりターゲットの使用効率を向上させています。チャンバとターゲットのアーキテクチャは、ターゲットからスパッタされた原子がシールドに付着することによる無駄を最小限に抑え、成膜効率を最大化します。マグネトロンとシールドのデザインにより、パーティクルの発生を低く抑えます。