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PIKA™ PVD

アプライド マテリアルズのPika PVD装置は、業界最小、最高速の枚様式PVD装置で、高性能の研究開発と、低いCOO (Cost of Ownership)での少量生産向けに設計されています。コンパクトな装置(1657mm x 755mm x 1822mm)には、デガス、プリクリーン、スパッタリング成膜モジュールが組み込まれ、高真空下でのロボット搬送チャンバとカセット間の完全自動化を備えます。92%以上の稼働率で、高い信頼性を実証しました。

DC、パルスDC、RFスパッタリングなど、多様なPVDスパッタリングソースの選択が可能で、さらにメタルやメタル酸化物等の合金を同時成膜することや、リアクティブスパッタリング プロセスも対応可能です。実績あるDソースマグネトロン技術を採用しており、シリコン、ガラス、有機材料、金属、ガリウムヒ素、その他のIII-V化合物の基板上に各種の単層ならびに多層膜の成膜を可能にします。Pikaはプラグ&プレイデザインにより、セットアップ時間を最小限に抑えます。