Producer® Black Diamond® PECVD
Applied Producer Black Diamond 3はアプライド マテリアルズのナノ多孔質Low-k誘電体技術における優位性をさらに発展させたもので、先進の配線を28nm以下の領域まで展開可能にします。
Black Diamond IIナノ多孔質Low-k膜は、k値約2.5の45/32nm銅/Low-k配線での業界標準です。
次世代のBlack Diamond 3膜は、業界をリードする同技術を超Low-k(ULK)膜(k~2.2)として強化し、22nm以下までスケーリングしてデバイスの高速化に貢献しています。また、最新の高度なパッケージングに要求される機械的強度(硬度と柔軟性)も備えています。この膜は水分に対する耐性が優れ、エッチング、フォトレジスト除去後のk値が安定しており、機械的強度も優れています。
Producer Black Diamond 3装置はApplied Producer Nanocure™ 3紫外線硬化装置と併せて使用できるように設計されています。Nanocure 3装置は、Black Diamond 3膜の機械的、光学的特性の最適化に必要な安定性、密度を供給するため、高強度紫外線源を採用しています。
この2段階での膜成長、硬化プロセスにより、アプライド マテリアルズの実績ある第2世代Black Diamond膜と比較して2倍の機械的強度を実現し、デバイスのバラツキを抑え、チップの歩留まりを飛躍的に向上します。