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低温多晶硅(LTPS)晶体管制造则比非晶硅(a-Si)和金属氧化物晶体管的生产更加复杂,有更多的步骤和工艺。
尽管这样增加了成本,但LTPS可实现的电子迁移率是现今基于金属氧化物技术的10倍,像素和像素密度也更高,从而使之成为OLED移动设备、超高像素电视、智能手机与平板电脑面板的最佳解决方案。大规模LTPS等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备的引入将助力领先的面板制造商把LTPS技术用于更大的基板,从而降低这些显示面板的成本。
应用材料公司的AKT-PX系列PECVD设备,在面积从1.6到5.7平方米(5代线至8.5代线)的玻璃基板上,沉积高度均匀的低温多晶硅(LTPS)薄膜。LTPS技术是一种已经得到验证的方法,在主动矩阵有机发光二极管(AMOLED)和超高分辨率薄膜晶体管液晶显示面板(TFT...
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AKT-PiVot 25KPX PVD设备可在六代线(1500毫米x1800毫米)基板上沉积氧化铟锡(ITO)、氧化铟镓锌(IGZO)和金属等薄膜晶体管的关键膜层和连接部分,适用于LTPS/LTPO移动设备。集群理念可实现快速单位时间(Tact time)、高产率、...
AKT EBT TFT阵列测试设备以最小的机械运动,实现高可靠性、较短的计划停机时间和低运行成本。电子束阵列测试设备的特征在于,通过几个平行的电子束迅速地进行大面积定位检测,从而实现快速测试。终极的电子束微小尺寸与精确定位使超高分辨率测试成为可能,...