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APPLIED TOPBEAM™ 1100系统

适用于安全应用的电子束蒸镀系统

汲取超过35年的电子束和溅射卷对卷镀膜经验,TopBeam™ 1100S系统结合了两种制程领域的优势:

  • 电子束蒸镀提供所有真空镀膜制程中最快的镀膜速度。与溅射镀膜相比,氧化物涂覆速度可以快100至数千倍。为了达到精确的涂层厚度及均匀性,必须要有一个诸如ESCOSYS™的闭环嵌入式控制系统。进行横向及纵向监测,通过适当的嵌入式测量系统进行操控。利用经过优化的蒸镀坩埚类型与形状,多种不同的金属及氧化物均可使用电子束蒸镀。
  • 溅射制程提供更多种类的镀膜材料,并且金属溅射制程的横向涂覆厚度均匀性是固定的。

TopBeam™ 1100S系统是厚氧化物膜层与薄金属膜层堆叠的最优解决方案。单个膜层的涂覆速度可相互匹配,并且两种膜层都可以通过单次涂覆完成。在其他情况下或是更复杂的膜层堆叠,则可以使用反向卷绕系统。