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AKT® 55KS PECVD

應用材料全新 AKT 55KS PECVD 將領先市場的精密電漿輔助化學氣相沉積 (PECVD) 技術引入大小為 2200mm x 2500mm 的基板。該系統使用一種全新高品質二氧化矽 (SiO2) 製程,為金屬氧化物 (MOx) 電晶體沉積一層電介質層介面,這種新製程將氫雜質降到最低程度,以提高電晶體的長期穩定性並優化螢幕性能。透過維持高均勻度和微塵粒子控制技術以達到高良率,AKT-55KS PECVD 可促進快速量產啟動,生產優質的 MOx 顯示器。