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Productsort descending 技術 轉折點 平台
Endura® CIRRUS™ HT Co PVD PVD 導線, 記憶體 Endura®
Aera4™ 光罩檢測 光罩, 量測與檢驗 圖案化 Aera™
Aeris™-G 電漿式廢氣處理系統
Aeris™-S
Aeris™-Si
ALTA® 4700DP Mask Writer 光罩 圖案化
Applied MDLx™ Ginestra™ Simulation Software 記憶體, 電晶體
Applied Producer® XP Precision® Draco™ CVD PVD
Applied® Sigmameltec® CTS Mask Coat Series 光罩 圖案化
Applied® Sigmameltec® MRC Mask Clean Series 光罩 圖案化
Applied® Sigmameltec® SFB Mask Bake Series 光罩 圖案化
Applied® Sigmameltec® SFD Mask Develop Series 光罩 圖案化
AXCELA™ 物理氣相沈積 PVD
Centris® Sym3® Etch 蝕刻 圖案化, 導線 Centris™
Centris® Sym3® Y Etch 蝕刻 圖案化, 導線 Centris™
Centura® DPN HD 高純度解耦電漿氮化閘極堆疊 快速升溫製程處理 (RTP) 記憶體 Centura®
Centura® DXZ CVD CVD, 功率, 化合物半導體, 微機電系統 (MEMS), 類比 Centura®
Centura® EPI 200mm 功率, 微機電系統 (MEMS), 磊晶, 類比 Centura®
Centura® Etch 功率, 化合物半導體, 微機電系統 (MEMS), 蝕刻, 類比 Centura®
Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW ALD, CVD 導線 Centura®
Centura® Prime® Epi 磊晶
Centura® Silvia™ Etch 蝕刻 晶圓級封裝 Centura®
Centura® Tetra™ EUV 先進光罩蝕刻系統 光罩, 蝕刻 圖案化 Centura®
Centura® Tetra™ Z 光罩蝕刻系統 光罩, 蝕刻 圖案化 Centura®
Centura® Ultima HDP-CVD® CVD Centura®
Charger™ UBM PVD PVD 晶圓級封裝 Charger™
Cobalt Product Suite CVD, PVD 導線 Endura®
Endura® ALPS® PVD (ALPS Co & Ni) PVD 電晶體 Endura®
Endura® Amber™ PVD PVD 導線 Endura®
Endura® Avenir™ RF PVD PVD 電晶體 Endura®
Endura® Cirrus™ HTX PVD PVD 圖案化, 導線 Endura®
Endura® Clover™ MRAM PVD PVD 記憶體 Endura®
Endura® CuBS RFX PVD PVD 導線 Endura®
Endura® iLB™ PVD/ALD PVD 導線, 記憶體 Endura®
ENDURA® IMPULSE™ PCRAM PVD PVD 記憶體 Endura®
Endura® PVD PVD, 功率, 化合物半導體, 微機電系統 (MEMS), 類比 Endura®
Endura® Ventura™ PVD PVD Endura®
Endura® Versa™ XLR2 W PVD PVD 導線, 記憶體 Endura®
Endura® Volta™ W CVD CVD 導線 Endura®
Endura® Volta™ Cobalt CVD CVD Endura®
Endura® Volta™ Selective W CVD CVD Endura®
Endura® 凸塊下金屬化 PVD PVD 晶圓級封裝 Endura®
Enlight® 光學晶圓檢測 量測與檢驗 圖案化
iSystem™ Controller
Mirra® MESA CMP 200mm CMP, 功率, 微機電系統 (MEMS), 類比
Nokota™ ECD ECD 晶圓級封裝 Nokota™
Olympia™ ALD ALD 電晶體 Olympia™
PIKA™ PVD PVD
Producer® APF™ PECVD CVD 圖案化 Producer®
Producer® Avila™ PECVD CVD 晶圓級封裝 Producer®